実験室用蛍光X線サンプル前処理装置 50Hz ベンチトップ蛍光X線分析装置

 実験室用XRF試料前処理装置 50Hz 高周波XRF分析装置

50Hz電源 高周波システム、連続工業運転用、コンパクト設計、約50kg

分析用途におけるXRF分析装置の役割

X線蛍光（XRF）分析装置は、様々な物質の元素組成を検出するために設計されています。これらの強力な分析機器は、科学研究、品質管理、および産業用途において重要な役割を果たしています。

XRF分析における試料前処理の重要性

試料前処理は、XRF分析チェーンにおける不可欠な要素です。高品質な試料前処理は、XRFを用いた正確な化学分析を実行するために不可欠です。試料が粉末状（ルーズまたはプレス）、溶融ビーズ、固体、または液体であっても、適切な試料前処理方法を見つけることが、正確で再現性の高い結果を得るための第一歩です。

高度な溶融法による試料前処理

溶融法は、試料前処理の高度な方法です。酸化された試料を、白金、ジルコニウム、またはグラファイト製のるつぼ内で適切な溶剤（フラックス）に高温で溶解させます。溶融した混合物を撹拌し、型に流し込んで冷却し、XRF分析用のガラスディスクを形成します。また、ビーカーに流し込んで、AAまたはICP分析用の溶液を作成することもできます。

IF Inductionの最先端溶融装置

IF Inductionの溶融装置は、高周波誘導加熱技術を基盤とした実験室用デバイスであり、XRF分析用のガラスディスク試料、およびICPおよびAA分析用のホウ酸塩および過酸化物溶液を調製できます。

IF Inductionの溶融機の利点

当社の誘導溶融機は、実験室でのXRF分析結果を向上させるのに役立ちます。顧客からは、迅速かつ優れた溶融物の均質化で評価されており、均一な加熱により再現性の高い結果が得られます。さらに、すべての溶融パラメータを変更して、所望の溶融条件を達成できるため、正確で信頼性の高い試料前処理が保証されます。

XRF分析試料前処理のパートナーとしてInductionFusionを選択し、高度な溶融技術の利点を体験して、優れた分析結果を得てください。

誘導溶融試料前処理の利点

l  高度な加熱技術:  IGBTベースの誘導加熱技術

l  迅速な加熱: 室温から1200℃までわずか30秒で加熱できます。

l  正確な温度制御: 各溶融位置には独立した誘導加熱器とコイルが装備されています。例えば、TY-8MCモデルには、溶融加熱用の誘導加熱器とコイルが4つ、成形加熱用の誘導加熱器とコイルが2つあります。

l  高い生産性: 自動設計により、複数の試料をバッチ処理でき、全体的な効率が向上します。1サイクルあたり10分で、1時間あたり最大20個の試料を準備できます。

l  低メンテナンスコスト: 高価なスペアパーツはありません

1.型とるつぼホルダーは、最高品質の耐熱合金製で、最大10年間の耐用年数を保証します。

2.当社のInductionは、白金メッキされたペンチに代わる純チタン製ペンチを提供します。1組のペンチは、数十年使用でき、白金メッキされたペンチの再メッキ修理費用を節約できます。

l  高性能: 溶融プロセス中、溶融混合物は常に水平および遠心方向に撹拌され、材料が完全に混合され、試料の均質性が保証されます。

l  強化された安全性: 密閉された作業チャンバーは、開放炎（ガス加熱）や高温放射のリスクを回避し、自動鋳造設計は、熱い材料や表面との接触を排除し、安全性と真のコールド・ツー・コールド操作を強化します。

l  操作が簡単（PLC制御）: 当社のInductionの誘導溶融試料前処理機は、ワンタッチ操作機能を備え、手動操作によるずれや汚染を回避し、試料前処理の標準化を保証する幅広いプリセット溶融プログラム15個を備えています。

l  環境保護: 内蔵排気システムが排ガスを除去します。

l  幅広いモデルから選択可能:

IF-2SC: 1溶融 + 1成形（手動鋳造）

IY-2ZC: 1溶融 + 1成形（自動鋳造）